文/北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 隋丹丹

　　美國專利再頒程序是一種允許專利權(quán)人在專利授權(quán)后對專利文件進(jìn)行修改的法律程序。這項程序旨在糾正專利文件中存在的缺陷，提高專利的價值和應(yīng)用范圍。本文筆者簡單介紹一下美國專利再頒的程序和意義。

　　一、定義

　　專利再頒程序允許專利權(quán)人從專利正式授權(quán)日開始，重新申請啟動該專利的審查程序，要求對該專利申請文件中的權(quán)利要求進(jìn)行再次審查，以克服原專利申請文件中存在的缺陷，或擴(kuò)大或縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍。再頒專利意味著放棄（surrender）原專利。

　　二、再頒程序的基準(zhǔn)（美國專利法第251條）

　?。ㄒ唬＠麢?quán)人需要證明原專利存在缺陷或?qū)＠麢?quán)人在申請文件中要求保護(hù)的范圍不準(zhǔn)確，使得原專利部分或全部無效或無法實施。

　?。ǘ┻@些缺陷是由沒有欺詐意圖（deceptive intent）的錯誤造成的。

　?。ㄈ┰兕C專利必須得到原說明書的支持，不得增加新內(nèi)容。

　?。ㄋ模τ诜秶鷶U(kuò)大的再頒請求，必須在原專利授權(quán)后2年內(nèi)提出。

　?。ㄎ澹τ诜秶s小的請求可在專利有效期內(nèi)任何時間提出。

　　三、再頒程序的效力（美國專利法第252條）

　　再頒專利的有效期限始終為原專利期限的剩余部分。

　　如果再頒專利保護(hù)范圍不變或縮小，其權(quán)利要求效力與原專利相同，即再頒專利構(gòu)成原專利的延續(xù)，并從原始專利之日起持續(xù)有效。

　　如果保護(hù)范圍擴(kuò)大，則新的權(quán)利要求可能會受到第三方介入權(quán)的限制：

　?。ㄒ唬┤绻趯＠麢?quán)人獲得再頒專利之前，第三方生產(chǎn)制造了不侵犯原專利但侵犯再頒專利的產(chǎn)品，允許他們對再頒專利授權(quán)前已經(jīng)實施或準(zhǔn)備實施的技術(shù)繼續(xù)使用或銷售，但不允許制造新產(chǎn)品。

　　（二）如果再頒專利為方法專利，美國法院可以準(zhǔn)許繼續(xù)實施在再頒專利之前已經(jīng)實施或已經(jīng)充分準(zhǔn)備實施的任何方法，只要法院認(rèn)為對于保護(hù)再頒專利前已經(jīng)做出的投資和已經(jīng)開始的業(yè)務(wù)是公平的。

　　 四、再頒程序的優(yōu)勢和風(fēng)險

　　再頒程序為專利權(quán)人提供了修改專利申請文件的途徑，允許糾正專利文件中的缺陷或加入針對競爭者產(chǎn)品的權(quán)利要求。但風(fēng)險在于，再頒程序相當(dāng)于重新審查新專利申請，若再頒申請并未被批準(zhǔn)，則原專利繼續(xù)有效；若再頒申請被授權(quán)，則原專利權(quán)不復(fù)存在。再頒程序意味著專利權(quán)人承認(rèn)其原專利存在部分或全部無效或無法實施的情形，這可能使專利權(quán)人在專利訴訟中處于不利地位。

　　五、再頒程序（Reissue）與再審程序（Reexamination）的比較

　　再頒程序與再審程序均可用于修正專利授權(quán)缺陷和錯誤。不同的是，再頒程序只能由專利權(quán)人啟動，其是專利權(quán)人對專利權(quán)的自我修正。再審程序可以由多方當(dāng)事人啟動，包括專利權(quán)人、非專利權(quán)人等，其可以是修正USPTO在審查中造成的專利授權(quán)缺陷和錯誤。

　　六、再頒程序失敗之后的策略

　　如果專利再頒程序失敗，專利權(quán)人可以考慮調(diào)整策略以保護(hù)其專利權(quán)益，例如考慮其他法律程序單方再審（Ex Parte Reexamination）或多方重審（Inter Partes Review, IPR）、補(bǔ)充審查（Supplemental Examination）、更正證書（Certificates of Correction）、重新申請等策略最大限度地保護(hù)其專利權(quán)益。

　　七、再頒程序的常用情況——擴(kuò)大已授權(quán)專利的范圍

　?。ㄒ唬U(kuò)大已授權(quán)專利的范圍

　　除了更正原專利中存在的缺陷之外，在實踐操作中，再頒專利還具有擴(kuò)大已授權(quán)專利的范圍的作用。也就是說，原專利權(quán)利要求的范圍比應(yīng)有的范圍窄，使得競爭對手有可能推出圍繞原專利權(quán)利要求設(shè)計的產(chǎn)品。

　　（二）再頒專利的理由

　　由上述“審查基準(zhǔn)”可見，專利必須“有缺陷”才能申請再頒專利。符合條件的缺陷之一是權(quán)利要求范圍太窄。因此，專利權(quán)人可以提交擴(kuò)大的再頒專利申請，擴(kuò)大原專利權(quán)利要求的范圍或者加入針對競爭者產(chǎn)品的新的權(quán)利要求，從而避免侵權(quán)。但是必須注意期限，擴(kuò)大的再頒專利申請必須在原專利授權(quán)日起兩年內(nèi)提交。

　?。ㄈ┰瓕＠麢?quán)利要求范圍太窄的適用情況

　　原專利權(quán)利要求范圍太窄的一種適用情況是競爭對手在其制造的產(chǎn)品中省略了原專利獨(dú)立權(quán)利要求中的一些特征。假設(shè)原專利的一項獨(dú)立權(quán)利要求記載了特征ABC，而競爭對手推出了一款僅具有特征AB的產(chǎn)品，即競爭產(chǎn)品忽略了特征C。因此，我們可以提交包含特征AB的再頒申請。

　?。ㄋ模┨峤粩U(kuò)大的再頒申請的程序

　　提交擴(kuò)大的再頒申請后，USPTO將以類似于審查原始專利的方式對再頒專利申請進(jìn)行審查。再頒程序由原審查員處理。審查員將檢索并發(fā)出審查意見。申請人有機(jī)會通過提交權(quán)利要求修改和爭辯作出回復(fù)。如果擴(kuò)大的再頒專利申請被授權(quán)，將最終獲得再頒專利。

　?。ㄎ澹┰兕C專利申請為專利授權(quán)后的繼續(xù)申請?zhí)峁┝艘粋€途徑

　　一般來說，在母專利被授權(quán)后，繼續(xù)申請也失去了時機(jī)。但是如果申請再頒申請，在該再頒申請?zhí)幱趐ending狀態(tài)時，可以提交再頒繼續(xù)申請。

　　總之，再頒程序作為美國專利申請制度獨(dú)特性的一個方面，為專利權(quán)人提供了一種可以糾正專利缺陷的手段，使得專利權(quán)人的權(quán)利得到了最大程度的保護(hù)，提高了專利的價值和應(yīng)用范圍，促進(jìn)了科技創(chuàng)新。